Indonesia
English
français
русский
español
português
العربية
한국의
ไทย
Tiếng việt
-
resin poliamida tahan suhu tinggi dt508
iSuoChem® dt508 resin poliamida benzena terlarut benzena menawarkan daya rekat sangat baik, dan titik pelunakan sedang.tag panas : Resin poliamida larut toluena Resin poliamida PA larut benzena butiran resin poliamida tahan suhu tinggi
-
co-solvent polyamide resin dt501 untuk tinta
iSuoChem® dt501 resin benzena poliamida cosolvent menawarkan daya rekat sangat baik, titik pelunakan sedang tahan air yang sangat baik, dan ketahanan kimia.tag panas : Resin poliamida pelarut kemurnian tinggi NOMER CAS. 63428-84-2 resin poliamida Pemasok resin poliamida Cosolvent Benzene
-
toluene type ceva benjolan resin untuk pelapisan
iSuoChem® toluene jenis ceva benjolan dibuat dari eva melalui modifikasi. dapat dilarutkan dalam pelarut organik seperti toluena, ester, dll.tag panas : gumpalan CEVA tipe toluena Cina gumpalan resin CEVA Adhesi yang baik Benjolan resin CEVA
-
clpp cpp resin untuk pelapisan
iSuoChem® ketik agl, resin clpp cpp solvent soluble adalah polypropylene terklorinasi terlarut promotor adhesi untuk substrat poliolefin. ini memiliki adhesi yang sangat baik untuk pp, pe, EPDM & bahan tpo.tag panas : resin CLPP yang larut dalam pelarut Butiran resin CLPP CPP untuk pelapisan Resin CLPP CPP yang larut dalam pelarut Polipropilena Klorinasi CPP resin murah untuk tinta bopp butiran polipropilena terklorinasi
-
resin polypropylene cpp terklorinasi untuk tinta cetak
iSuoChem® ketik ag, resin polypropylene cpp terklorinasi terlarut adalah promotor adhesi polypropylene terklorinasi terlarut untuk substrat poliolefin.tag panas : resin polipropilen terklorinasi yang larut dalam pelarut produsen resin CPP polypropylene terklorinasi resin polypropylene terklorinasi untuk tinta cetak
-
co-pelarut toluena resin poliamida larut
iSuoChem® resin poliamida larut toluena, juga disebut resin poliamida pelarut bersama, atau resin poliamida larut benzena. kami dapat menyediakan resin poliamida larut toluena dalam berbagai jenis, seperti DT501, DT501H, DT508, DT588, dan DT556.tag panas : Resin poliamida larut Toluena yang larut bersama resin poliamida butiran kuning larut toluena adhesi yang sangat baik resin poliamida tidak beracun
-
Emulsi akrilik berbasis air untuk tinta
iSuoChem® Emulsi akrilik berbasis air murni bebas dari APEO yang terutama digunakan untuk Tinta & OPV, primer UV dan tinta plastik.tag panas : Emulsi akrilik cair putih susu bening Emulsi akrilik berbasis air bebas dari APEO Emulsi akrilik berbasis air gloss tinggi
-
Resin PA Poliamida yang larut dalam alkohol
iSuoChem® resin poliamida yang larut dalam alkohol. kami dapat menyediakan resin pa larut alkohol dalam berbagai jenis, seperti DT610, DT610A, DT610H, dan dt6245tag panas : Stok resin PA yang larut dalam alkohol Co-pelarut resin PA larut alkohol Resin PA yang larut dalam alkohol kimia
-
resin akrilik
iSuoChem® resin akrilik berbasis air adalah padatan transparan glosses yang sangat baik, ketahanan abrasif, kelarutan yang baik, transparansi yang tinggi, kemampuan cetak yang baik dan transitivitas yang baik.tag panas : Resin akrilik berbasis air gloss yang sangat baik Resin akrilik padat berbahan dasar air Cina pemasok resin akrilik sampel gratis
-
Kopolimer Polimer Lateks Emulsi Akrilik Styrene untuk Cat
iSuoChem Emulsi akrilik stirena berbahan dasar air murni bebas dari APEO yang terutama digunakan untuk Tinta & OPV, primer UV, dan tinta plastik.tag panas : Ống thủy lực Resin Akrilik Stirena Tay áo bảo vệ nylon Emulsi Kopolimer Styrene-Akrilat Polimer Emulsi Akrilik Styrene Ống dẫn khí nóng Diesel
-
Resin kloroeter Alternatif Laroflex MP 15 25 35 60 untuk pelapis
resin iSuoChem® CMP 15 25 35 60 dapat menjadi alternatif sempurna untuk BASF Laroflex MP 15 25 35 60.tag panas : Laroflex MP15 Laroflex MP25 Laroflex MP35 Laroflex MP60 Resin kloroeter MP35 MP35 untuk mengeringkan lapisan
-
CAS 25191-04-2 Perekat Meleleh Panas Kopoliamida
Perekat Meleleh Panas Co-poliamida 8615Gtag panas : Perekat Meleleh Panas Kopoliamida Perekat Meleleh Panas Ko-poliamida HMA
